A szilícium lapkák egyfajta félvezető anyag, amelyet széles körben használnak az elektronikában, a számítógépekben, a kommunikációban, az autóiparban, a repülőgépiparban és más területeken. A szilícium lapkákat a szilícium lapkák tisztasága szerint félvezető szilícium lapkákra és fotovoltaikus szilícium lapkákra osztják; az eljárás szerint csiszolt ostyákra, lágyított ostyákra, epitaxiális ostyákra és SOI ostyákra oszthatók; méretük szerint 12 hüvelykes\300 mm, 8 hüvelykes\200 mm és 6 hüvelykes\150 mm méretűre vannak besorolva, amelyek közül a 200 mm-es és a 300 mm-es szilícium lapkák szélesebb alkalmazási körrel rendelkeznek.
Szilícium lapka osztályozás |
||
| Osztályozási kritériumok | Termékkategóriák | bevezetni |
| Osztályozás a szilícium lapka tisztasága szerint | Félvezető szilícium lapkák Fotovoltaikus szilícium lapkák |
1. A félvezető szilícium lapkák fontos anyagok az integrált áramkörök készítéséhez. Fotolitográfiával, ionimplantációval és egyéb módszerekkel integrált áramkörök és különféle félvezető eszközök készíthetők. 2. A fotovoltaikus szilícium lapkák a fotovoltaikus területen használt szilícium lapkák. A fotovoltaikus területen a szilícium lapkákat leginkább a napenergia elektromos energiává történő átalakítására használják. |
| Osztályozás folyamat szerint | "Csiszolt ostya Izzított ostya Epitaxiális ostya SOI ostya" |
1. A polírozó ostyák a legszélesebb körben használt, leggyakrabban használt és legalapvetőbb termékek. Más szilícium ostyatermékeket másodlagos feldolgozás útján állítanak elő polírozó lapkákon. 2. Az izzító ostyákat úgy állítják elő, hogy a polírozó ostyákat argonnal vagy oxigénnel teli magas hőmérsékletű környezetben lágyítják. Ez nagymértékben csökkentheti az oxigéntartalmat a polírozó lapka felületén, ezáltal jobb kristályintegritást és magasabb félvezető-maratási követelményeket tesz lehetővé. 3. Az epitaxiális lapkák gőzfázisú növesztési technológiát alkalmaznak a polírozó ostya felületén, hogy epitaxiálisan egyetlen termékszerkezeti réteget növesztjenek a polírozó lapka felületén, így annak felülete simább lesz, mint a vágásból kivágott polírozó ostya, ezáltal csökkentve a felületet. hibákat. 4. A SOI lapkák szendvics szerkezetek, azaz az alsó réteg a polírozó ostya, a középső réteg az eltemetett oxidréteg, a felső réteg pedig az aktív réteg polírozó ostya, amely magas elektromos szigetelést érhet el, ezáltal csökkentve a parazita kapacitást, ill. szivárgás. |
| Osztályozás méret szerint | 1 2 hüvelyk \ 3 0 0 mm 8 hüvelyk \ 2 0 0 mm 6 hüvelyk \ 1 5 0 mm |
1. Főleg csúcskategóriás termékekben használják, például CPU-ban, GPU-ban és más logikai chipekben és memóriachipekben, amelyek a jelenlegi piacon a fő méret, körülbelül 65-70%-os piaci részesedéssel. 2. Főleg alacsony és középkategóriás termékekben használják, mint például energiagazdálkodási chipek, MCU, teljesítmény félvezetők stb., körülbelül 25-27% piaci részesedéssel. 3. Főleg alacsony és közepes kategóriás termékekben, például teljesítmény-félvezetőkben használják, közel 6–7%-os piaci részesedéssel |
A szilícium lapkákat tisztaságuk szerint félvezető szilícium lapkákra és fotovoltaikus szilícium lapkákra osztják. A fotovoltaikus térben monokristályos szilíciumot és polikristályos szilíciumot is használnak, amelynek tisztasági követelménye körülbelül 99,9999% (4-6N). Főleg napelemek gyártására használják, és széles körben használják fotovoltaikus erőművekben, tetőtéri elosztott fotovoltaikus energiatermelésben és más területeken. A félvezető térben csak monokristályos szilíciumot használnak. Ahogy a folyamat folyamatosan zsugorodik, tisztaságának el kell érnie a 99,999999999%-ot (11N) vagy afelettit. Főleg chipek előállítására használják, és széles körben használják a kommunikációban, a fogyasztói elektronikában, az autóiparban, az iparban és más területeken. A szilícium ostya tisztasági osztályozási indexében különböző tisztasági fokozatok szerint osztályozzák, és a tisztaságának mérésére általában ppm-et (azaz ppm-et) használnak. A szilícium lapkákat kristályos szilíciumhoz, félvezető szilíciumhoz, elektronikus szilíciumhoz, ipari minőségű szilíciumhoz, gyártási minőségű szilíciumhoz, általános szilíciumhoz stb. használják különböző tisztaság szerint.
A félvezető szilícium lapkák és a fotovoltaikus szilícium lapkák összehasonlítása |
|||||
| Alkalmazások | Tisztasági szabványok | Szilícium alapanyag típusok | Felületi szabványok | Formák és méretek | Alkalmazások |
| Félvezetők | 99.999999999%(11N) | Monokristályos szilícium | A laposság és a simaság 1 nm-en belül szabályozható | Kerek, 150, 200, 300 mm átmérőjű | Főleg chipek előállítására használják, széles körben használják a kommunikációban, a fogyasztói elektronikában, az autóiparban, az iparban stb. |
| Fotovoltaik | 99.9999%左右(4-6N) | Létezik monokristályos szilícium és polikristályos szilícium is, amelyeknek körülbelül 60%-át a polikristályos szilícium teszi ki. | A szabványok alacsonyabbak, mint a félvezető területen | A négyzet alakú oldalhossz 125 mm, 150 mm és 156 mm lehet | Főleg napelemek gyártására használják, széles körben használják fotovoltaikus erőművekben, tetőtéri elosztott fotovoltaikus energiatermelésben és más területeken |
Szilícium lapka tisztasági osztályozási indexe |
||
| Szilícium lapka tisztasági szintje | Szilícium ostya tisztaság | Szilícium lapka szennyeződései |
| 6N szint | A tisztaság 99,9999% | Vagyis a szennyeződések nem haladják meg a 10 ppm-et |
| 7N szint | A tisztaság 99,99999% | Vagyis a szennyeződések nem haladják meg az 1 ppm-et |
| 8N szint | A tisztaság 99,999999% | Azaz a szennyeződések mennyisége nem haladja meg a 0,1 ppm-et |
| 9N szint | A tisztaság 99,9999999% vagy több | Vagyis a szennyeződések mennyisége nem haladja meg a 0,01 ppm-et |
Szilícium lapka tisztasági indexe alkalmazás szerint |
|
| Osztályozás alkalmazási tisztaság szerint | Konkrét mutatók |
| Kristályos szilícium | A kristályos szilíciumot gyémánt- és szilícium-dioxid-homokból szintetizálják, és a termék tisztasága eléri a 99,999%-ot. |
| Félvezető szilícium | A félvezető szilíciumot a kristályos szilícium további feldolgozásával nyerik. A félvezető szilícium tisztasága olyan magas, mint 99,9999%, ami a kristályos szilícium továbbfejlesztett változata. |
| Elektronikus szilícium | Az elektronikus szilíciumot elektronikus eszközök gyártására használják. Tisztasága eléri a 99,999999%-ot. Az elektronikus szilíciumnak 6-tal több 9-e van, mint a kristályosnak szilícium, más néven hat-kilenc fokozatú szilícium. |
| Ipari minőségű szilícium | Ipari minőségű szilíciumot használnak ipari alkatrészek gyártásához. Tisztasága általában eléri a 99,99%-99,999%-ot, ami valamivel rosszabb, mint kristályos szilícium. |
| Gyártási minőségű szilícium | A gyártási minőségű szilíciumot gyártási alkatrészek gyártására használják. Tisztasága általában 99,95%-99,99% között van, ami valamivel rosszabb, mint kristályos szilícium. |
| Általános szilícium | Az általános szilícium egy gyakoribb szilícium. Tisztasága általában 99%{1}},8% között van, ami a legelterjedtebb szilíciumanyag. |














