A röntgendiffrakciós (XRD) kísérletekben a nulla-háttér szubsztrát használata jelentősen csökkentheti magától a hordozótól a minta diffrakciós jelére ható interferenciát, ami jobb minőségű diffrakciós mintákat eredményez.Kristály orientáció kiválasztásaaz egyik alapvető tényező a nulla-háttérteljesítmény eléréséhez.
Alapelv
A nulla{0}}háttérhordozók kristálytájolása egy egyszerű elvet követ:Helyezze a szilícium szubsztrát fő diffrakciós csúcsát a kísérletek általánosan használt 2θ pásztázási tartományán kívülre, elkerülve ezzel magából a mintából származó diffrakciós jelet.
A hagyományos por XRD-kísérletek pásztázási tartománya többnyire koncentrált5 fok - 90 fok (2θ), ezért olyan speciális kristályorientációt kell kiválasztani, hogy a szilícium jellegzetes diffrakciós csúcsa ezen a tartományon kívül jelenjen meg.
Gyakran használt speciális irányok
1. <510>Tájolás
- Diffrakciós jellemzők: A szilícium fő diffrakciós csúcsa viszonylag nagy 2θ szögben jelenik meg, ami meghaladja a hagyományos XRD kísérletek általánosan használt pásztázási tartományát. Ezért szinte semmilyen nyilvánvaló szilícium szubsztrát diffrakciós csúcs nem jelenik meg az 5-90 fok tartományban.
- Előnyök: Kiváló nulla-háttér-teljesítmény, jelenleg a leggyakrabban használt nulla-háttér-hordozó orientáció a tudományos kutatásban.
- Alkalmazhatóság: Ajánlott a legtöbb hagyományos XRD-kísérlethez, különösen a por-XRD-hez és az alacsony-szögű XRD-teszthez.
2. <511>Tájolás
- Diffrakciós jellemzők: Hasonló<510>, jellemző diffrakciós csúcsa szintén a hagyományos kísérleti tartományon kívül helyezkedik el, és nem okoz jelentős interferenciát a mintajelben.
- Előnyök: Kiváló nulla-háttérteljesítményt is biztosít.
- Alkalmazhatóság: Egy másik általános választás, egyes kutatók ezt a műszerkonfiguráció vagy kísérleti szokások alapján preferálják.
Miért nem megfelelőek a hagyományos irányok?
A piacon a legelterjedtebb szilícium lapka orientáció a<100>és<111>, de nem alkalmasak nulla-háttérhordozókhoz:
|
Hagyományos tájékozódás |
Fő diffrakciós csúcs (2θ) |
Probléma |
|
<100> |
Si(400) csúcs ~69 fok |
Pontosan az általánosan használt teszttartományba esik, erős szubsztrátcsúcsot hozva létre, amely komolyan zavarja a minta jelét |
|
<111> |
Si(111) csúcs ~28 fok |
A hagyományos vizsgálati tartomány közepén található, így az interferencia még hangsúlyosabb |
Ezért, bár a hagyományos tájolások könnyen elérhetőek, egyáltalán nem ajánlottak nulla-háttér-XRD-kísérletekhez.
Tájolási kiválasztási útmutató
- Válassza ki a teszttartomány alapján: Ha a kísérlet főként az alacsony-szögű régióra (kis-szögű XRD) összpontosít, mindkettő<510>és<511>kielégíti a keresletet, és mindkettő jó nulla-háttéreffektussal rendelkezik.
- A személyes szokások alapján válasszon: A különböző laboratóriumok hagyományos használati szokásokkal rendelkezhetnek. Mindkét irányzat széles körben elfogadott a tudományos életben, és saját tapasztalatai alapján választhat.
- Kis tételes testreszabás: Speciális tájolás nem érhető el a hagyományos raktárkészletből, és egyedi vágást igényel. Támogatjuk mindkettő kis-köteges testreszabását<510>és<511>orientációk, minimum 5 db rendelés esetén.
Összefoglaló táblázat
|
Tájolás |
Nulla{0}}háttérteljesítmény |
Elérhetőség |
Ajánlás |
|
<510> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Testreszabható |
🌟🌟🌟🌟🌟 |
|
<511> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Testreszabható |
🌟🌟🌟🌟 |
|
<100> |
❌ |
Raktáron |
❌ |
|
<111> |
❌ |
Raktáron |
❌ |
Rólunk
A Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd. testreszabhatja és biztosíthatja<510>vagy<511>orientáció XRD nulla{0}}háttérhordozó szilícium lapkák a kutatási követelményeknek megfelelően. Támogatjuk a speciális méretek, vastagságok és felületkezelési követelményeket, valamint kis tételes megrendeléseket is elfogadunk.
Weboldal: www.sibranch.com|https://www.sibranchwafer.com/
Hivatalos WeChat fiók: Sibranch Electronics
Testreszabási kérdéseivel forduljon hozzánk bizalommal.
