Amorf szilícium napelem előkészítési módszere

Számos módszer létezik az amorf szilícium napelemekre, beleértve a plazmával javított kémiai gőzleválasztást, a reaktív porlasztást, az izzító kisülést, az elektronsugaras elpárologtatást és a szilán hőbontását.
1. Reaktív porlasztási módszer: Először infravörös lézerrel írjuk le a TCO vezetőképes üveghordozót; lézeres írás után végezzen ultrahangos tisztítást; az aljzat megtisztítása után helyezze egy speciális lerakó szerkezetbe, és tolja be a sütőbe előmelegítésre; előmelegítés Az utóleválasztási szerelvényt a PECVD-leválasztási vákuumkamrába tolják, és az amorf szilíciumot a PECVD-leválasztási eljárással rakják le; majd a zöld lézerrel a lerakott amorf szilícium szubsztrátumon egy második lézeres csíkozást hajtanak végre, és a lehúzás után megtisztítják; majd A megtisztított szubsztrátumot PVD technológiával fém hátsó elektróda kompozit filmmel vonják be, és a cink-oxid réteget, mint az egyik fém hátsó elektróda kompozit filmet az amorf szilíciumréteg felületére rakják le, és a többi fém hátsó elektróda réteget. a cink-oxid rétegen; majd a zöld lézerrel végezze el a harmadik lézeres beírást az alapfelületen a lerakódott fém hátsó elektródával, majd a lehúzás után tisztítsa meg. Eddig kialakult az akkumulátor chip szerkezete; ezt követően laminálják és csomagolják az akkumulátor chipet, és beépítik a csatlakozódobozt és az ólomvezetékeket. Végül végezzen teljesítménytesztet az alkatrészeken, és csomagolja dobozokba a minősített termékeket. A gyártott fotovoltaikus modulok méretétől és specifikációitól függően a gyártási ciklus általában három-négy órát vesz igénybe.
2. Plazmával javított kémiai gőzleválasztási módszer: leválasztókamrák sorozatát alkalmazzák a gyártás során folyamatos program kialakítására a tömegtermelés elérése érdekében. Ugyanakkor az amorf szilícium napelem nagyon vékony, rakott típusúvá, vagy integrált áramköri módszerrel gyártható. Egy síkon megfelelő maszkos eljárással több cella is sorba állítható egyszerre, hogy nagyobb feszültséget kapjunk.
3. Izzító kisülési módszer: egy kvarctartályt evakuálnak, megtöltenek hidrogénnel vagy argonnal hígított szilánnal, rádiófrekvenciás áramforrással felmelegítik a szilán ionizálására, hogy plazmát képezzenek, és az amorf szilícium filmet a fűtött szubsztrátum fölé helyezik.