Melyek a szilíciumlapka tisztítási folyamatának lépései?

A szilícium lapka felületén adszorbeált szennyeződések három típusra oszthatók: molekuláris típusú, ion típusú és atomi típusú. Ezek közül a molekuláris szennyeződés és a szilíciumlapka felülete közötti adszorpciós erő gyenge, és az ilyen szennyező részecskéket viszonylag könnyű eltávolítani. Legtöbbjük zsírszennyeződés, amely hidrofób, és maszkoló hatást fejt ki az ionos és atomi szennyeződések eltávolítására.
Ezért a szilícium ostyák vegyi tisztítása során először azokat el kell távolítani. Az ionos és atomos adszorbeált szennyeződések kémiailag adszorbeált szennyeződések, adszorpciós erejük erős.
Általánosságban elmondható, hogy az atomi típusú adszorbeált szennyeződések mennyisége csekély, ezért a vegyszeres tisztítás során először az ionos típusú adszorbeált szennyeződéseket távolítják el, majd a megmaradt ionos típusú szennyeződéseket és atomi típusú szennyeződéseket távolítják el.
Végül öblítse le a szilícium ostyát nagy tisztaságú ionmentesített vízzel, majd melegítse és szárítsa meg vagy centrifugálja meg, hogy tiszta felületű szilícium ostyát kapjon.
Összefoglalva, a szilícium lapkák tisztításának általános folyamata a következő: molekuláris eltávolítás → ionmentesítés → deatomálás → ionmentesített vízzel történő öblítés. Ezenkívül a szilícium lapka felületén lévő oxidréteg eltávolítása érdekében gyakran híg hidrogén-fluoridos áztatási lépést adnak hozzá.